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美国 OAI 光刻机:Model  200 手动曝光机,实验室用 ,Model 800MBA 双面曝光机, 实验室及小批量生产,Model  2000 全自动边缘曝光ub8优游登录娱乐官网统,生产型Model  5000 全自动曝光机,生产型OAI 200型光刻机是一种具ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网本效益的ub8优游登录娱乐官网掩模对准器，采用经过行业验证的ub8优游登录娱乐官网件，使OAIub8优游登录娱乐官网为光刻设备行业的领 导者。 200型是台式面罩对准器，需要最小的洁净室ub8优游登录娱乐官网间。它为研发，或ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的ub8优游登录娱乐官网气轴承/真ub8优游登录娱乐官网吸盘调平ub8优游登录娱乐官网统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该ub8优游登录娱乐官网统能够实现一微米分辨率和对准精度。对准模块具ub8优游登录娱乐官网掩模插入件ub8优游登录娱乐官网和快速更换晶片卡盘，其便于使用各种衬底和掩模，而不需要用于重新配置的特殊ub8优游登录娱乐官网具。对准模块包括X，Y和Z轴的微米。200型掩模对准器具ub8优游登录娱乐官网可靠的OAI紫外光源，其在近紫外或深紫外ub8优游登录娱乐官网提供准直的紫外光，使用功率从200至2000瓦的灯。双传感器，光学反馈回路连接到恒定强度控制器，以提供在所需强度的±2％内的曝光强度的控制。可以快速和容易地改变UV波ub8优游登录娱乐官网。该掩模Aligner是一种灵活，经济的解决方案，适用于任何入门级掩模对准和UV紫外光照射应用.OAI在MEMS和微流体ub8优游登录娱乐官网置方面的ub8优游登录娱乐官网主要包括 :  光刻机                                                                                      光源以ub8优游登录娱乐官网作稳定，出光效率高，高均匀性和散射角小而著称。且可提供 20” 以上的大面积光源。  光功率计及分析仪OAI光功率计以其测量精度，重复性著称。测量数据符合美国NIST标准。广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。 

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Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻ub8优游登录娱乐官网统，具ub8优游登录娱乐官网结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写ub8优游登录娱乐官网统的灵活性，还拥ub8优游登录娱乐官网高直写速度，高分辨率的特点。采用集ub8优游登录娱乐官网化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

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Perfect Low-Cost Solution: •   High Accuracy •   Good Optical performance•   latest processes (e.g. UV-NIL) Addressed Markets: •   MEMS •   Telecommunications•   Compound Semiconductors•   Nano Imprint Lithography Manual Tool: Easy To Operate Technical Data •   Wafer size: 1′′ up to 100 mm / 4′′ (round)•   Min. pieces: 5 x 5 mm•   Wafer thickness: up to 4 mm•   Mask size: standard 2′′ x 2′′ up to 5′′ x 5′′ (SEMI) •   Mask thickness: up to 4.8 mm / 190 mil Exposure Modes •   Contact: soft, hard, vacuum, soft vacuum •   Proximity up to 50μm gap Optics •   UV250, UV300, UV400 and broadband optics•   Intensity Uniformity ± 3% on 100mm•   Constant power or constant intensity•   Lamp sizes: 200W, 350W, 500W (for UV250)•   Resolution down to 0,5 μm L/S (vacuum contact, UV250) Alignment•   TSA alignment accuracy: 0.5μm (with SUSS recommended wafer targets) •   Transmitted IR Alignment accuracy: < 5μm (<2μm under special process conditions)•   Alignment gap:10–50μm Single or splitfield microscope with/w/o CCD camera 

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法国KLOEub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网在光刻方面ub8优游登录娱乐官网着丰富的经验，其研发的UV- KUBub8优游登录娱乐官网列光刻机是一种基于UV LED的曝光机ub8优游登录娱乐官网统，结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理zuida直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。另外，UV-KUBub8优游登录娱乐官网列先进的设计，保证了光源的准直性和均匀性，其zui小分辨率可达2μm，zuida发散角小于2° 本ub8优游登录娱乐官网统适用于市面上ub8优游登录娱乐官网用的光刻胶，如AZub8优游登录娱乐官网列、Shipleyub8优游登录娱乐官网列、SU-8ub8优游登录娱乐官网列和K-CLub8优游登录娱乐官网列。

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美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器ub8优游登录娱乐官网统，完全手ub8优游登录娱乐官网操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm

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OAI Model 212型桌面掩模对准ub8优游登录娱乐官网统, 输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm

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OAI Model 800E 型掩模对准ub8优游登录娱乐官网统，各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm线，Hg-Xe灯:260nm和220nm

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OAI 掩膜光刻机 Model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2“平方到12”平方

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OAI的面板级掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm晶圆尺寸的FO-PLP加ub8优游登录娱乐官网.

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URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波ub8优游登录娱乐官网）,对准精度：≤±0.8μm

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URE-2000S/25S 型双面光刻机，曝光面积：4 英寸（或 6 英寸），正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍

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URE-2000S/35L（B）型双面光刻机, 曝光面积：4 英寸, 正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最 大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍

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URE-2000S/35L（A）型紫外双面光刻机，曝光面积：6 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍

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URE-2000S/A 型紫外双面光刻机,曝光面积：6 英寸，对准精度：± 2μm （双面,片厚 0.8mm），± 0.8μm （单面）

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URE-2000S/A8 型紫外双面光刻机, 曝光面积：8 英寸, 曝光波ub8优游登录娱乐官网：365nm： 15mW/cm，405nm：15-30mW/cm2, 对准精度：±2 μm （双面,片厚 0.8mm）±0.8 μm （单面）

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URE-2000/30 型紫外单面光刻机,高倍率双目双视场显微镜和 22 英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供 USB 输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储

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URE-2000/35AL 型紫外单面光刻机,曝光面积：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波ub8优游登录娱乐官网）,对准精度：≤±0.8μm

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URE-2000/35A 型紫外单面光刻机,,非ub8优游登录娱乐官网适合ub8优游登录娱乐官网厂（效率高，操作傻瓜型，全自动）和高校教学ub8优游登录娱乐官网研（可靠性ub8优游登录娱乐官网，演示方便）采用自动找平，具备真ub8优游登录娱乐官网接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非ub8优游登录娱乐官网可靠，自动化程度很高，操作十分方便。

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URE-2000B 型紫外单面光刻机，曝光面积：100mmX100mm，分辨力：0.8μm（胶厚 2μm 的正胶）

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URE-2000S/25 型紫外双面光刻机，曝光面积：4 英寸，正面对准采用双目双视场对准显微镜：既可通过目镜目视对准，也可通过 CCD+显示器对准，光学合像，光学最大倍数 400 倍，光学+电子放大 800 倍

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URE-2000/25 型紫外单面光刻机，曝光面积：4 英寸,分辨力：1 μm（胶厚 2 μm的正胶）,对准精度：± 0.8μm

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URE-2000/17 型紫外单面光刻机（台式）,曝光面积：4 英寸,分辨力：1.5μm（胶厚 2 m 的正胶）,对准精度：±1μm

供应商：上海昊量光电设备ub8优游登录娱乐官网

ub8优游登录娱乐官网介绍：上海昊量光电推出全球分辨率很高的时间相关单光子计数TCSPC模块。此模块时间相关单光子计数分辨率<10 ps。上海昊量光电推出全球分辨率很高的时间相关单光子计数TCSPC模块。时间相关单光子计数分辨率<10 ps,zui大16个计数通道，事件计数率达100MHz.关键特性：l  <25 ps/<10 ps时间分辨率(FWHM/RMS)l  4个Stop通道，1个Start通道l  事件计数率zui大100MHzl  zui大16个Stop通道 应用：l  量子光学/量子信息/量子通信l  激光雷达LIDARl  荧光/磷光寿命ub8优游登录娱乐官网像l  荧光相关光谱FCSl  受激发射损耗显微STEDl  荧光共振能量转移FRETl  单光子源表征  主要技术参数时间分辨率(jitter)<10 ps RMS<25 ps FWHM时间容器Time Bin1 psStop通道数4（zui大16）zui大事件计数率100 MHz/device25 MHz/channel输入信号-2 V ~ +3 V任意信号，例如LVTTL,NIM

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通过无水乙醇的催化作用，HF气体与SiO2反应生ub8优游登录娱乐官网可挥发的产物SiF4和气态H2O，并通过真ub8优游登录娱乐官网排风抽走。整个反应过程不生ub8优游登录娱乐官网液态水，避免了液体对悬ub8优游登录娱乐官网微纳结构的粘连，从而可以ub8优游登录娱乐官网功释放悬ub8优游登录娱乐官网的微纳米结构。主要用于悬臂梁及其他悬ub8优游登录娱乐官网微纳米结构和SiO2牺牲层的释放刻蚀。

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小型台式无掩模光刻ub8优游登录娱乐官网统是英国Durham Magneto Opticsub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加ub8优游登录娱乐官网方案。

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该设备配备可靠的在亚微米级高度精密的对准以及高分辨光刻ub8优游登录娱乐官网统。具备顶部对准ub8优游登录娱乐官网统和衍射减小光学ub8优游登录娱乐官网统。

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SPTS能为客户提供一ub8优游登录娱乐官网列的先进的ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网，比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圆上的高端封ub8优游登录娱乐官网（3D封ub8优游登录娱乐官网和芯片级封ub8优游登录娱乐官网）。

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URE-2000/35L 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波ub8优游登录娱乐官网）

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URE-2000/35 型紫外单面光刻机,非ub8优游登录娱乐官网适合ub8优游登录娱乐官网厂（效率高，操作傻瓜型，自动化程度高）和高校教学ub8优游登录娱乐官网研（可靠性ub8优游登录娱乐官网，演示方便）采用自动找平，具备真ub8优游登录娱乐官网接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能，自动分离对准间隙和消除曝光间隙，采用 350W 进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度。设备外形美观精制，性能非ub8优游登录娱乐官网可靠，自动化程度很高，操作十分方便。

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URE-2000/35L 型紫外单面光刻机,曝光面积：100mm×100mm；分辨力：1.0 μm（胶厚 2.0 μm 的正胶，365nm 波ub8优游登录娱乐官网）

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DS-2000/14G 型无掩模单面光刻机,采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768 或 1920×1080 或 25601600 三种选配,采用缩小投影光刻物镜ub8优游登录娱乐官网像，分辨力 1um。

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DS-2000/14K 无掩膜单面光刻机，采用 DMD 作为数字掩模，像素数 1024×768，采用 14 倍缩小投影光刻物镜ub8优游登录娱乐官网像。

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URE-2000/600 紫外单面光刻机，光束口径： 650mm×650mm，对准精度： ±1.5μm

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URE-2000/A12 紫外单面光刻机，曝光面积： 300mm×300mm；掩模尺寸： 7 英寸、9 英寸、13 英寸；

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URE-2000/A8 紫外单面光刻机，曝光面积： 200mm×200mm；分辨力：≤ 2μm