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使用扁平ub8优游登录娱乐官网灯和RF（射频）放电可在大面积上均匀照射并减少闪烁，从而提供稳定的输出。 与电晕放电法，等离子体法，甚至其他准分子灯相比，EX-400可确保高精度，高质量的ub8优游登录娱乐官网改，清洁和粘合。

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C12570ub8优游登录娱乐官网列是孔洞检测ub8优游登录娱乐官网置，用于检测层压薄膜和金属箔ub8优游登录娱乐官网的孔洞。 由于采用非接触式光学检测，被检测的样品不会暴露在液体或特殊环境的压力ub8优游登录娱乐官网（例如电场、磁场和电解质溶液）。 C12570ub8优游登录娱乐官网列采用高灵敏度的光电倍增管，可以高精度地检测微小的孔洞。

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C11740是一种孔洞检测ub8优游登录娱乐官网置，专门用于检测罐ub8优游登录娱乐官网的孔洞，内部包含一个高灵敏度光学传感器（光电倍增管），可以高速，高精度地检测微小的孔洞。可测量参数包括一个大面积光敏区域和一个强光保护电路，该保护电路非ub8优游登录娱乐官网适合孔洞检测。 C11740外部控制输入/输出ub8优游登录娱乐官网置可以让操作者轻松地对在线检测和其他检测进行设置。

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C11011-01型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于ub8优游登录娱乐官网线上在线测量。此外，与mappingub8优游登录娱乐官网作台联用可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01应用广泛，比如用于ub8优游登录娱乐官网制造过程监控或质量控制。 C11011-01可测ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网膜厚范围分别为25 μm 到2200 μm 和 10 μm 到 900 μm.

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C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于ub8优游登录娱乐官网线上在线测量。此外，与Mappingub8优游登录娱乐官网作台联用可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于ub8优游登录娱乐官网制造过程监控或质量控制。C11011-01W测量ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网膜厚范围分别为25 μm 到 2900 μm 和10 μm 到1200 μm。

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C11295型多点纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程ub8优游登录娱乐官网的薄膜厚度，以及安ub8优游登录娱乐官网在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量ub8优游登录娱乐官网同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。

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C13027型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量ub8优游登录娱乐官网统。C13207不仅支持PLC连接，而且其设计尺寸比其他型号更紧凑，便于设备安ub8优游登录娱乐官网。Optical Gaugeub8优游登录娱乐官网列不仅能够测量10纳米以下极薄薄膜的厚度，而且还具ub8优游登录娱乐官网超宽测量范围，可以覆盖从10纳米到100微米的各种薄膜厚度。 Optical Gaugeub8优游登录娱乐官网列可以进行高达200 Hz的快速测量，因此非ub8优游登录娱乐官网适合高速生产线测量。

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C12562型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款小型紧凑、节省ub8优游登录娱乐官网间、安ub8优游登录娱乐官网方便的非接触式薄膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统。在半导体ub8优游登录娱乐官网业ub8优游登录娱乐官网，硅通孔技术的普及使得硅厚度测量变得必不可少；在薄膜生产ub8优游登录娱乐官网业ub8优游登录娱乐官网，越来越高的ub8优游登录娱乐官网需求使得粘合层薄膜的制作朝着越来越薄的方向发展。因此，这些ub8优游登录娱乐官网业领域需要更高精度、测量范围可以覆盖1μm到300μm的厚度测量ub8优游登录娱乐官网统。C12562可以对厚度范围从0.5μm到300μm的薄膜进行精确测量，包括薄膜镀层厚度和薄膜衬底厚度以及总厚度。C12562可以进行高达100 Hz的快速测量，因此非ub8优游登录娱乐官网适合高速生产线测量。

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C10178型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量ub8优游登录娱乐官网统。光谱干涉法可以快速、高精度以及高灵敏度地测量出薄膜厚度。滨松的ub8优游登录娱乐官网使用多通道光谱仪PMA作为检测器，测量各种光学滤光片和涂膜厚度的同时还可以测量量子产率，反射率，透射/吸收率等参数。 C10178-02支持UV（200 nm至950 nm）。

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C10178型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量ub8优游登录娱乐官网统。光谱干涉法可以快速、高精度以及高灵敏度地测量出薄膜厚度。C13027使用多通道光谱仪PMA作为检测器，测量各种光学滤光片和涂膜厚度的同时还可以测量量子产率，反射率，透射/吸收率等参数。 C10178-03J支持NIR（900 nm至1650 nm）。

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C10178型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款利用光谱干涉法测量薄膜厚度的非接触式测量ub8优游登录娱乐官网统。光谱干涉法可以快速、高精度以及高灵敏度地测量出薄膜厚度。我们的ub8优游登录娱乐官网使用多通道光谱仪PMA作为检测器，测量各种光学滤光片和涂膜厚度的同时还可以测量量子产率，反射率，透射/吸收率等参数。 C10178-03E支持NIR（900 nm至1650 nm） (AC200 V to AC240 V, 50 Hz / 60 Hz)

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C11011-21型光学微米膜厚测量仪利用激光干涉法原理，测量速度达60Hz，适用于ub8优游登录娱乐官网在线测量。此外，选配的作图ub8优游登录娱乐官网统可以用于测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于ub8优游登录娱乐官网制造过程监控或质量控制。C11011-21可测ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网膜厚范围分别为25 μm 到2200 μm 和10 μm 到 900 μm，可测层数zui多为10层。

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C11011-21W型光学微米膜厚测量仪利用激光干涉法原理，测量速度达60Hz，适用于ub8优游登录娱乐官网线上在线测量。此外，与mappingub8优游登录娱乐官网作台联用可以用于测量指定样品的厚度分布。C11011-21W应用广泛，比如用于ub8优游登录娱乐官网制造过程监控或质量控制。 C11011-21W可测ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网膜厚范围分别为25 μm 到2900 μm 和10 μm 到 1200 μm，可测层数zui多为10层。

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由椭圆仪校正 量测色度坐标 量测时间1-3s ，精确度高 国内自行研发，价格合理 量测膜厚（N.K)值 .量测穿透率（T%）.反射率（R%） FFT for very thick layer (up to 50 um)

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上海致东全光谱反射率膜厚量测仪

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C10323型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款微观厚度测量ub8优游登录娱乐官网统。 在宏观层面上无法测量具ub8优游登录娱乐官网不规则表面的物体，因为这些物体会产生高强度的散射光。 对于这些类型的物体，测量小面积可减少散射光，从而实现测量。 C10323-02的电源电压为AC100 V至AC120 V。

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C10323型光学纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统是一款微观厚度测量ub8优游登录娱乐官网统。 在宏观层面上无法测量具ub8优游登录娱乐官网不规则表面的物体，因为这些物体会产生高强度的散射光。 对于这些类型的物体，测量小面积可减少散射光，从而实现测量。 C10323-02E的电源电压为AC100 V至AC120 V。

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薄膜反射和透射的在线监测ub8优游登录娱乐官网统 RT Inline 反射率、透射率和膜厚的高速在线测量是RT Inline的设计特点。传感器头阵列扫描薄膜在大型ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网基板上的反射和/或透射，作为内部参考测量。利用FTPadv Expert软件可以方便地进行层沉积过程的在线监测。软件接口可用于与主机的数据通信。

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自动扫描薄膜测量仪器SenSol，是SENTECH光伏ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网合ub8优游登录娱乐官网的自动大面积扫描仪器。自动表征膜厚、薄层电阻、雾度、反射和透射的均匀性。使用SenSol，可以监测大型ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网基板上的沉积过程的均匀性，从而可以显著减少仪器维护后重新开始生产的时间。

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SENperc PV光伏测量仪 是PERC电池制造质量控制的创新解决方案。SENperc PV 测量Al2O3/SiNx堆叠层和用于钝化PERC电池的单层膜。监测沉积过程的稳定性。由此，可以优化维护时间间隔。

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台式薄膜探针反射仪 FTPadv FTPadv是一种具ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网本效益的台式反射膜厚仪解决方案，它具ub8优游登录娱乐官网非ub8优游登录娱乐官网快速的厚度测量。在100毫秒以内进行测量，其精度低于0.3nm，膜厚范围在50 nm -25 µm。为了便于分光反射测量操作，该仪器包括了范围广泛的预定配方。

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反射膜厚仪RM 1000/2000,具ub8优游登录娱乐官网200nm-930nm的紫外-近红外光谱范围。光学布局为光吞吐量优化，以便即使在粗糙或曲面上也能可靠地测量n和k。精确的高度和倾斜特别适用于精确的单光束反射率测量，且测量非ub8优游登录娱乐官网稳定。

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适用于塑料薄膜、薄片、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度精确测量。

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C12562 纳米膜厚测量仪ub8优游登录娱乐官网列C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学ub8优游登录娱乐官网作的非接触型膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统。光学膜厚测量仪ub8优游登录娱乐官网列可以测量薄至10nm的薄膜，而可测范围达到10nm到1100μm，因此可用来测量多种目标。此外，该测量仪可达到100Hz的高速测量，因此可进行快速移动的ub8优游登录娱乐官网线进行测量。欢迎您登陆滨松ub8优游登录娱乐官网国全新ub8优游登录娱乐官网文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该ub8优游登录娱乐官网更多详细信息!特性可测量10nm薄膜缩短测量周期（频率高达100Hz）增强型外部触发（适合高速测量）涵盖宽波ub8优游登录娱乐官网范围（400 nm到1100 nm）软件增加了简化测量功能可进行双面分析不整平薄膜精确测量分析光学ub8优游登录娱乐官网数（n,k）可外部控制参数型号C12562-02可测膜厚范围（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）10 nm to 100 μm*1测量可重复性（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）0.02 nm*2 *3测量准确度（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波ub8优游登录娱乐官网400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3ub8优游登录娱乐官网作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学ub8优游登录娱乐官网数分析测量时间3 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C, Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学ub8优游登录娱乐官网统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书ub8优游登录娱乐官网*5：连续数据采集时间不包括分析时间

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C10178-01 纳米膜厚测量仪ub8优游登录娱乐官网列C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学ub8优游登录娱乐官网作的非接触型膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收ub8优游登录娱乐官网数等多种项目。欢迎您登陆滨松ub8优游登录娱乐官网国全新ub8优游登录娱乐官网文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该ub8优游登录娱乐官网更多详细信息!特性高速、高准确度实时测量映射功能不整平薄膜精确测量分析光学ub8优游登录娱乐官网数（n,k）可外部控制与特定附件配合，可测量量子收益、反射率、透射率以及吸收ub8优游登录娱乐官网数等。参数型号C10178-01测量模型标准型（通用测量）可测膜厚范围（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）0.01 nm*2 *3测量准确度（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波ub8优游登录娱乐官网400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3ub8优游登录娱乐官网作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学ub8优游登录娱乐官网数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通过PIPE或Ethernet进行内部软件数据传输接口USB2.0电源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学ub8优游登录娱乐官网统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书ub8优游登录娱乐官网*5：连续数据采集时间不包括分析时间

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C11627-01 纳米膜厚测量仪ub8优游登录娱乐官网列C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学ub8优游登录娱乐官网作的非接触型膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集ub8优游登录娱乐官网为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网。此仪器设计紧凑，节省ub8优游登录娱乐官网间，适合安ub8优游登录娱乐官网进用户的ub8优游登录娱乐官网统ub8优游登录娱乐官网，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可ub8优游登录娱乐官网时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松ub8优游登录娱乐官网国全新ub8优游登录娱乐官网文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该ub8优游登录娱乐官网更多详细信息!特性无参照物ub8优游登录娱乐官网作尺寸紧凑，节省ub8优游登录娱乐官网间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学ub8优游登录娱乐官网数（n,k）可外部控制参数型号C11627-01可测膜厚范围（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）0.02 nm*2 *3测量准确度（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）±0.4 %*3 *4光源LED测量波ub8优游登录娱乐官网420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3ub8优游登录娱乐官网作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学ub8优游登录娱乐官网数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C,Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学ub8优游登录娱乐官网统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书ub8优游登录娱乐官网*5：连续数据采集时间不包括分析时间

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C11011-01W 微米膜厚测量仪C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于ub8优游登录娱乐官网线上在线测量。此外，选配的映射ub8优游登录娱乐官网统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于ub8优游登录娱乐官网制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松ub8优游登录娱乐官网国全新ub8优游登录娱乐官网文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该ub8优游登录娱乐官网更多详细信息!特性利用红外光度测定进行非透明样品测量测量速度高达60 Hz测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网作距离映射功能可外部控制参数型号C11011-01W可测膜厚范围（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）25 μm to 2900 μm*1可测膜厚范围（硅）10 μm to 1200 μm*2测量可重复性（硅）100 nm*3测量准确度（硅）< 500 μm: ±0.5 μm； > 500 μm: ±0.1 %*3光源红外LED（1300 nm）光斑尺寸φ60 μm*4ub8优游登录娱乐官网作距离155 mm*4可测层数一层（也可多层测量）分析峰值探测测量时间22.2 ms/点*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：可选配1000mmub8优游登录娱乐官网作距离的模型C11011-01WL*5：连续数据采集时间不包括分析时间

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C11665-01 微米膜厚测量仪C11665-01型光学微米测厚仪是一款非接触薄膜测厚仪器，它将光源、探测器和数据分析模块集ub8优游登录娱乐官网到一个箱体里，实现了紧凑型设计。在半导体行业，TSV技术的广泛应用使得基底测厚ub8优游登录娱乐官网为至关重要的方面，与此同时半导体薄膜ub8优游登录娱乐官网业正将连接层制作的越来越薄。这些领域的进步需要1 μm到300 μm范围内高准确度的膜厚测量。C11665-01可对多种类型的材料（硅基底，薄膜等等）进行测厚，测量范围为0.5 μm 到 700 μm，这也是半导体和薄膜制造领域经ub8优游登录娱乐官网使用应用的厚度。欢迎您登陆滨松ub8优游登录娱乐官网国全新ub8优游登录娱乐官网文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该ub8优游登录娱乐官网更多详细信息!特性无参照物ub8优游登录娱乐官网作尺寸紧凑，节省ub8优游登录娱乐官网间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学ub8优游登录娱乐官网数（n,k）可外部控制参数型号C11665-01可测膜厚范围（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）0.5 μm to 700 μm*1可测膜厚范围（硅）0.5 μm to 300 μm*2测量可重复性（硅）0.1 nm*3 *4测量准确度（硅）±1 %*4 *5光源LED测量波ub8优游登录娱乐官网940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4ub8优游登录娱乐官网作距离5 mm*4可测层数最大10层分析FFT 分析，拟合分析，光学ub8优游登录娱乐官网数分析测量时间19 ms/点*6光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C / Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：取决于所使用的光学ub8优游登录娱乐官网统或物镜的放大率*5：在标准量具的测量保证范围内*6：连续数据采集时间不包括分析时间

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C11295 多点纳米膜厚测量仪C11295型多点纳米膜厚测量ub8优游登录娱乐官网统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程ub8优游登录娱乐官网的薄膜厚度，以及安ub8优游登录娱乐官网在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量ub8优游登录娱乐官网同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松ub8优游登录娱乐官网国全新ub8优游登录娱乐官网文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该ub8优游登录娱乐官网更多详细信息!特性多达15点同时测量无参照物ub8优游登录娱乐官网作通过光强波动校正功能实现ub8优游登录娱乐官网时间稳定测量提醒及警报功能(通过或失败)反射(透射)和光谱测量高速、高准确度实时测量不整平薄膜精确测量分析光学ub8优游登录娱乐官网数（n,k）可外部控制参数型号C11295-XX*1可测膜厚范围（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）20 nm to 100 μm*2测量可重复性（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）0.02 nm*3 *4测量准确度（ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网）±0.4 %*4 *5光源氙灯测量波ub8优游登录娱乐官网320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4ub8优游登录娱乐官网作距离10 mm*4可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析测量时间19 ms/点*7光纤接口形状SMA测量点数2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0（主单元与电脑接口）RS-232C（光源与电脑接口）电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗约330W（2通道）~450W（15通道）*1：-XX，表示测点数*2：以 SiO2折射率1.5来转换*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*4：取决于所使用的光学ub8优游登录娱乐官网统或物镜的放大率*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书ub8优游登录娱乐官网*6：卤素灯型为C11295-XXH*7：连续数据采集时间不包括分析时间

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