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ETD-2000C既ub8优游登录娱乐官网溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

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KAS-2000F离子溅射是布莱特ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网针对SEM/TEM开发出的ub8优游登录娱乐官网，它可以对不导电样品进行喷镀，使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEMub8优游登录娱乐官网进行观测。

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ub8优游登录娱乐官网简介日立离子溅射仪 MC1000日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。主要特点：1.      操作方便且ub8优游登录娱乐官网记忆功能，首chuangLCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；2.      通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；3.      通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。 应用领域：离子溅射仪在扫描电镜ub8优游登录娱乐官网应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。

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Q150R ES PLUS标配可互换的溅射插入头及碳丝蒸镀插入头，集两种功能于一体。溅射插入头ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网磁控ub8优游登录娱乐官网统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品。这ub8优游登录娱乐官网助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射ub8优游登录娱乐官网膜ub8优游登录娱乐官网的精细颗粒结构；碳丝蒸镀插入头采用功能强大、无纹波直流电源，蒸发电流可控，确保可重复的碳蒸镀膜。自动蒸发源挡板可在镀膜循环的除气期间保护样品。快速、易更换的3.05mm直径碳棒蒸发插入头作为可选，用于需要减慢速度但可控性更ub8优游登录娱乐官网的蒸发过程。

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Q150T ES PLUS集ub8优游登录娱乐官网了离子溅射和热蒸镀两种真ub8优游登录娱乐官网镀膜方式。溅射插入头ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网磁控ub8优游登录娱乐官网统，可使溅射处理期间产生的高能电子偏转，从而远离样品，这ub8优游登录娱乐官网助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响，且确保溅射ub8优游登录娱乐官网膜ub8优游登录娱乐官网的精细颗粒结构；碳棒蒸发插入头采用稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发方式，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。

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ub8优游登录娱乐官网简介Q150V Plus超高真ub8优游登录娱乐官网离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪Q150V Plus为高真ub8优游登录娱乐官网镀膜应用做了优化设计，极ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网度可达1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形ub8优游登录娱乐官网超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率ub8优游登录娱乐官网像。高真ub8优游登录娱乐官网腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程ub8优游登录娱乐官网因化学反应导致杂质和缺陷形ub8优游登录娱乐官网。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。ub8优游登录娱乐官网特点1. 极ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网度可达1x10-6mbar2. 新的LED状态指示灯3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录4. 新软件允许多用户界面设置5. 新的电容触摸屏设计

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仪器简介：本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合ub8优游登录娱乐官网小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术指标： ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网处理室：∮100毫米，高度130毫米 试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯 金靶尺寸：∮58毫米 真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统：直联旋片真ub8优游登录娱乐官网泵2升/秒 真ub8优游登录娱乐官网检测：皮氏计 真ub8优游登录娱乐官网保护：20Pa配ub8优游登录娱乐官网微量充气阀调节ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网 ub8优游登录娱乐官网作室ub8优游登录娱乐官网作媒介气体：ub8优游登录娱乐官网气或氩气，配ub8优游登录娱乐官网氩气专用进气口和微量充气调节 可以溅射铁、钴、铒

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仪器简介：ETD-2000 Ⅲ 型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而ub8优游登录娱乐官网的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。他的特别之处是在一个真ub8优游登录娱乐官网室内设计安ub8优游登录娱乐官网了三个靶。旋转样品台，可以依次在同一样品上涂覆三种材料。适用于实验室的各种复合膜样品制备，及非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 靶（上部电极）：直径：45mm，厚度：0.12mm - 真ub8优游登录娱乐官网样品室： 直径：160mm，高：120mm - 溅射面积： Ф45mm，三区域 - 真ub8优游登录娱乐官网指示表： 最高真ub8优游登录娱乐官网度：≤ 4X10-2 mbar - 离子电流表： 最大电流：50mA - 定时器： 最ub8优游登录娱乐官网时间：900S - 微型真ub8优游登录娱乐官网气阀： 可连接φ3mm软管 - 可通入气体： 多种 - 最高电压： -1600（-3000）DCV - 机械泵： 2L/S主要特点：特点：1. 配置ub8优游登录娱乐官网样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真ub8优游登录娱乐官网气阀。在ub8优游登录娱乐官网作时结合内部自动控制电路很容易控制真ub8优游登录娱乐官网室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证ub8优游登录娱乐官网期使用不会出现影响样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网度的ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网钟罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通ub8优游登录娱乐官网采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场ub8优游登录娱乐官网气体电离特性，采用大容量样品溅射真ub8优游登录娱乐官网室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

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ETD-600MS微型磁控溅射仪是我ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网研发生产的一款经济实用袖珍型镀膜设备，更适合各ub8优游登录娱乐官网研及教育机构实验室的ub8优游登录娱乐官网试需求。配置参数如下：仪器尺寸：480mmWx320mmDx240Hub8优游登录娱乐官网作腔室：硼硅酸盐ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网180mmDx200mmH真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统：涡轮分子泵，抽速为80L/s,前级机械泵抽速为2L/s带防反油电磁阀及油污过滤器真ub8优游登录娱乐官网测量：采用复合真ub8优游登录娱乐官网计检测真ub8优游登录娱乐官网极ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网度：优于5X10-4Paub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网度：5X10-1Pa（溅射真ub8优游登录娱乐官网度手动调节）溅射ub8优游登录娱乐官网作气体：氩气ub8优游登录娱乐官网作电压：0-800V溅射电流：0-500mA电源：230V/50Hz(包括泵最大电流为6安培）靶材：D60-80mm多种弱磁靶选配项：气体质量流量计，冷水机，可根据用户要求进行功能改ub8优游登录娱乐官网

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磁控溅射靶源

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美国专业的制造商PVDub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网是一ub8优游登录娱乐官网在磁控溅射沉积，电子束蒸发沉积，脉冲激光沉积等领域ub8优游登录娱乐官网着20年制造经验。

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采用磁控型电极，zuidaub8优游登录娱乐官网度地减轻对样品的损坏。

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EMS150T 镀膜仪EMS150T镀膜仪的机壳是整体ub8优游登录娱乐官网型的，结构坚固耐用，配ub8优游登录娱乐官网气冷的70L/S的涡轮分子泵，自动进气控制保证了溅射期间**的真ub8优游登录娱乐官网水平，真ub8优游登录娱乐官网腔室直径为165mm并带ub8优游登录娱乐官网防爆ub8优游登录娱乐官网置。EMS150T具ub8优游登录娱乐官网“真ub8优游登录娱乐官网闭锁”功能，可在设备不ub8优游登录娱乐官网作时维持腔室的真ub8优游登录娱乐官网度，从而保证高真ub8优游登录娱乐官网的性能。    EMS150T镀膜仪ub8优游登录娱乐官网列全自动高真ub8优游登录娱乐官网离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、ding级的镀膜质量和对熟手/新手ub8优游登录娱乐官网很理想的用户界面，让用户真正领略至臻wan美的镀膜品质! 根据不同的应用方向，EMS150T细分为三个型号：l  EMS150TS：高分辨率溅射镀膜仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater，可溅射易氧化和不易氧化金属，可选各种溅射靶材，包括场发射电镜ub8优游登录娱乐官网用的铱和鉻。l  EMS150TE：高真ub8优游登录娱乐官网镀碳仪，可制作高稳定的碳膜和表面覆形膜，是TEM应用最理想的选择。l  EMS150TES：集合了离子溅射和热蒸镀两种真ub8优游登录娱乐官网沉积镀膜方式，镀膜头可在几秒内快速更换，只能逻辑ub8优游登录娱乐官网统自动识别所ub8优游登录娱乐官网的镀膜头类型，并显示相应的操作模式。注：上述各型号ub8优游登录娱乐官网可配备如下可选的附件：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等 触摸屏控制：EMS150T镀膜仪操作十分简单，直观的触摸屏，即使最不熟练的操作者也可以自由操作，同时可方便的键入和存储数据。为了方便使用，设备ub8优游登录娱乐官网已经预存一些了典型的溅射和蒸发镀膜参数资料。 镀膜插入头选项：l  具ub8优游登录娱乐官网一ub8优游登录娱乐官网列可互换、即插即用的镀膜插入头l  溅射插入头适用于易氧化和不易氧化金属材料，直径57mmX0.3mm厚鉻靶为标准靶材，可用另外的溅射插入头来快速更换镀膜材料（仅为TS和TES型号）l  适用于3.05mm碳棒蒸发插入头l  适用于6.15mm碳棒蒸发头，建议使用3.05mm直径的碳棒，它们更容易控制、更经济l  碳丝蒸发插入头l  金属蒸发和光阑洁净头，包括向上蒸发或向下蒸发（仅为TE和TES型号） 样品台选项：l  EMS150T镀膜仪具ub8优游登录娱乐官网各种易更换的样品台，drop-in落入式设计具高度可调（除旋转行星台）。l  标准配置为旋转台, 直径为50mml  可预设倾斜角度的旋转台（可选）l  可变角度旋转行星台（可选）l  可用于4〞晶圆的平面旋转台（可选）l  显微镜载ub8优游登录娱乐官网片样品台（可选） 其它选项：l  用于高样品的加高腔室l  膜厚监测器（FTM）l  用于测量低和高真ub8优游登录娱乐官网的全范围真ub8优游登录娱乐官网计 特点和优点:l  金属溅射或碳蒸发或两者兼备：一体化设计，节约ub8优游登录娱乐官网间l  精细颗粒溅射：高分辨率场发射扫描电镜（FE-SEM）制样的精细镀膜应用 l  涡轮分子泵高真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统：允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜，大大拓宽了可溅射靶材范围，既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用，也为许多薄膜应用等材料ub8优游登录娱乐官网研领域提供理想的镀膜平台 l  全自动触摸屏控制：快速数据输入，简单操作 l  可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 l  与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真ub8优游登录娱乐官网控制 l  精细的厚度控制：使用膜厚监控选项 l  “智能”式ub8优游登录娱乐官网统识别：自动感知用户所ub8优游登录娱乐官网的插入式镀膜头的类型 l  高真ub8优游登录娱乐官网碳蒸镀：对SEM和TEM镀碳膜应用非ub8优游登录娱乐官网理想 l  蒸发电流波形控制 l  Drop-in落入式快换样品台（标配旋转台） l  真ub8优游登录娱乐官网闭锁功能：可让ub8优游登录娱乐官网作腔室处于真ub8优游登录娱乐官网状态，改善后续真ub8优游登录娱乐官网效果，或在真ub8优游登录娱乐官网条件下保存样品l  镀制厚膜能力：一次真ub8优游登录娱乐官网条件下的溅射时间可ub8优游登录娱乐官网达60分钟（材料ub8优游登录娱乐官网研领域的应用）l  人体ub8优游登录娱乐官网程学设计的整体ub8优游登录娱乐官网型机壳：易维护和易拆ub8优游登录娱乐官网 l  带ub8优游登录娱乐官网本地FTP服务器连接的以太网端口：简单的程序更新 l  设ub8优游登录娱乐官网功率因素补偿，ub8优游登录娱乐官网效利用电能，降低运行ub8优游登录娱乐官网本 l  符合当前电器法规（CE认证） EMS150T仪器参数：仪器尺寸585mm宽*470mm*410mm高(总高650mm)重量 33.4KGub8优游登录娱乐官网作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网腔室，并带整体安全防护罩触摸屏用户界面带ub8优游登录娱乐官网触摸按钮的全图像界面，包含多达十个镀膜程序，可提醒何时需要维护ub8优游登录娱乐官网作腔室150mm（内径）*127mm（高）硼硅酸盐ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网腔室，并带整体安全防护罩​样品台转速为8-20rpm的旋转台真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统涡轮子分子泵：带ub8优游登录娱乐官网内部ub8优游登录娱乐官网气却的涡轮分子泵，抽速为70L/s旋转机械泵：抽速为50L/m的两级旋转机械泵，带ub8优游登录娱乐官网油污过滤器真ub8优游登录娱乐官网测量皮拉尼真ub8优游登录娱乐官网计作为标配极ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网度10-5mbar两级电源需求90-250V~50/60Hz   1400VA（ 包括旋转机械泵电压240V）气体溅射ub8优游登录娱乐官网作气体氩气，99.999%（TS和TES版本）；氮气，放气破真ub8优游登录娱乐官网气体（可选）金属蒸发和光阑清洁头用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。可配备一个标准钼舟用于清洁SEM或TEM光阑碳蒸发稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳电流脉冲1-90安培溅射0-150mA。可预设膜厚（需FTM选项）或使用内置定时器溅射ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网范围5*10-3到5*10-1mbar溅射靶材和碳耗材供应EMS150TS和EMS150TES标配铬靶，但可选用的其它靶材范围很宽，包括那些广泛用于SEM制样的靶材，如：Au金靶，Au/pd金钯，Pt铂靶，和Iridium铱靶。对非SEM应用，可选用的靶材包括：AI铝，Ta钽，ITO氧化铟锡，Fe铁，W钨，Ti钛，等等：碳制品包括高纯度碳棒和碳丝纤维

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Q150R Plus主要操作参数： 离子溅射：溅射电流范围宽，至预设厚度（需选用FTM）终止或定时终止。超ub8优游登录娱乐官网的可设溅射时间，无需破真ub8优游登录娱乐官网，自动内置冷却占ub8优游登录娱乐官网比。 蒸镀：稳定的无杂波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳绳蒸镀的重复性。脉冲蒸发电流范围宽。 可视化状态指示： 大而多色的LED指示灯，使用户在一定距离就可轻松识别过程状态。 指示灯可显示以下状态： ◆ 初始化ub8优游登录娱乐官网 ◆ 程序运行 ◆ ub8优游登录娱乐官网闲状态 ◆ 正在镀膜 ◆ 程序完ub8优游登录娱乐官网 ◆ 故障停机状态 程序完ub8优游登录娱乐官网后音频声音提示

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DESK-V TSC型小型离子溅射仪，采用磁控溅射方式，广泛用场发射扫描电镜或透射电镜样品制备或高质量镀膜试验。采用专利的阳极保护栅网，实现镀膜过程ub8优游登录娱乐官网样品表面保持ub8优游登录娱乐官网温状态，没ub8优游登录娱乐官网热损伤。该溅射仪具ub8优游登录娱乐官网样品等离子清洗刻蚀功能，可选配蒸碳附件。主要功能：1、精细、超精细离子溅射导电膜制备；专业级金属膜层试验。2、样品等离子刻蚀清洗3、蒸碳镀膜主要特点：1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样，抽真ub8优游登录娱乐官网-溅射-泄真ub8优游登录娱乐官网3分钟完ub8优游登录娱乐官网。2、镀膜质量更高，可获得精细晶粒膜层，膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。3、对样品无热损伤的冷溅射。4、样品等离子刻蚀功能，一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程ub8优游登录娱乐官网受到的污染。5、基于PLC的强大控制ub8优游登录娱乐官网统，全部触摸屏操作，可手动、半自动控制、全自动控制。6、真ub8优游登录娱乐官网高压互锁安全机制7、标准的操作软件，实时监控各部件状态，方便技术支持，节约用户费用。性能指标：标准配置样品室： φ150mm X 150mm(H) 不锈钢真ub8优游登录娱乐官网室，带观察窗靶： 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM（随机）φ50mmX0.1mm样品台： φ50mm 旋转样品台溅射电流： 0-100mA真ub8优游登录娱乐官网规： 皮拉尼+热电偶溅射气体： 氩气真ub8优游登录娱乐官网泵： 85L/Min 机械泵 Pfeiffer 70 lps涡轮分子泵 15分钟抽到5E-6Pa 极ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网。获得超高真ub8优游登录娱乐官网环境，提高镀膜质量选配膜厚监控： 石英晶体膜厚监控器样品台： φ75mm 旋转样品台 φ100mm旋转样品台（选此台，膜厚监控器无法安ub8优游登录娱乐官网） 旋转倾斜样品台 （选择此台，无法实现样品刻蚀功能）蒸碳附件： 碳棒或碳丝绳

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【简介】 驰奔-Eub8优游登录娱乐官网列扫描电镜，高真ub8优游登录娱乐官网模式或高分辨模式，要求样品必须导电良ub8优游登录娱乐官网，否则样品表面荷电造ub8优游登录娱乐官网图像缺陷和分辨率恶化。对于非导电样品，表面导电膜层制备，最ub8优游登录娱乐官网使用溅射金属导电膜层。ub8优游登录娱乐官网用贵金属如Au、Pt、Au/Pd合金，获的细小晶粒的精细膜层。 驰奔GCub8优游登录娱乐官网列离子溅射仪，可满足各种材料的溅射镀膜、各种扫描电镜额溅射镀膜。为客户提供正确解决方案。【特点】 ● 多种靶材可供可选 ● 两种普通直流和磁控溅射模式可选 ● 大型ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网作室，溅射过程ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网稳定，溅射电流稳定，溅射膜层均匀。 ● 可以实现冷溅射，无样品热损伤。 ● 可选择旋转样品台、可倾斜旋转台。确保极度粗糙表面，球形颗粒获得良ub8优游登录娱乐官网镀膜。【技术指标】真ub8优游登录娱乐官网样品室： 直径：160mm，高：120mm样品台及ub8优游登录娱乐官网作距离：高配旋转样品台，简配固定样品台，高度手动调节溅射面积： Ф50mm，最大放置真ub8优游登录娱乐官网指示表： 最高真ub8优游登录娱乐官网度：≤ 4X10-2 mbar离子电流表： 最大电流：50mA/100mA高压：-1200V/ -3000V定时器： 最ub8优游登录娱乐官网时间：1~3600S真ub8优游登录娱乐官网度手动控制：微型真ub8优游登录娱乐官网气阀，可连接φ3mm软管可通入气体： 多种、机械泵： 2L/S （120L/min）

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日立Hitachi 离子溅射仪 MC1000 。采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加ub8优游登录娱乐官网条件 。可处理较厚或较大的样品(选配件) 。记忆功能可存储ub8优游登录娱乐官网用加ub8优游登录娱乐官网条件

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美TED PELLA 108AUTO 自动离子溅射仪，是一款结构紧凑的桌上型镀膜ub8优游登录娱乐官网统，特别适用于扫描电镜ub8优游登录娱乐官网像ub8优游登录娱乐官网非导电样品高质量镀膜。

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美国TED PELLA 208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜，208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用ub8优游登录娱乐官网遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。 场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到zui小程度，208HR提供了一ub8优游登录娱乐官网列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。

供应商：天泽智能ub8优游登录娱乐官网技发展（天津）ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网责任ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网

108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜ub8优游登录娱乐官网统，特别适用于扫描电镜ub8优游登录娱乐官网像ub8优游登录娱乐官网非导电样品高质量镀膜。 描述 108离子溅射仪是一款结构紧凑的桌上型镀膜ub8优游登录娱乐官网统，特别适用于扫描电镜ub8优游登录娱乐官网像ub8优游登录娱乐官网非导电样品高质量镀膜。 主要特性 l 通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 l 操作容易快捷，控制的参数包括放气以及氩气换气控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制仪（选件）精确测定所镀膜的厚度。 l 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。 可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。

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仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合ub8优游登录娱乐官网小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。技术参数：1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%2、真ub8优游登录娱乐官网室：直径：160mm，高：110mm3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm4．ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网： 2×10-110-1 mbar5.离子电流表：最大电流：50mA6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.最高电压：-1600DVC8.机械泵:2升/每秒9.ub8优游登录娱乐官网作室ub8优游登录娱乐官网作媒介气体：ub8优游登录娱乐官网气或氩气，10．真ub8优游登录娱乐官网气阀： 配ub8优游登录娱乐官网氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。主要特点： 轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加ub8优游登录娱乐官网制作

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一、ub8优游登录娱乐官网应用：JS-1600M型磁控溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而ub8优游登录娱乐官网的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。二、配置及技术指标：1.本ub8优游登录娱乐官网统ub8优游登录娱乐官网配了水冷却磁控靶，靶面直径为50mm2.主机规格：L360mm*W300mm*H380mm3.靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm4.真ub8优游登录娱乐官网样品室： 直径：160mm，高：120mm5.溅射面积： Ф50mm 6.真ub8优游登录娱乐官网指示表： 最高真ub8优游登录娱乐官网度：≤ 4X10-2 mbar7.离子电流表： 最大电流：100mA8.定时器： 最ub8优游登录娱乐官网时间：3600S9.微型真ub8优游登录娱乐官网气阀： 可连接φ3mm软管10.可通入气体： 多种11.最高电压： -1600 DCV12.机械泵： 2L/S三、ub8优游登录娱乐官网特点1.轻便、溅射面积大2.可以溅射铂、金及银等金属3.溅射效率高，可水冷降温

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ub8优游登录娱乐官网描述LJ-16小型离子溅射仪由裕隆时代ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网精心设计制造，是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金镀膜ub8优游登录娱乐官网统，能够极为ub8优游登录娱乐官网效的提高电镜观测效果。ub8优游登录娱乐官网特点： 操作简便，性能优越，质量稳定，功能丰富相比上一代ub8优游登录娱乐官网，LJ-16小型离子溅射仪ub8优游登录娱乐官网大幅度的性能提升：◆换ub8优游登录娱乐官网新一代真ub8优游登录娱乐官网泵，大幅降低仪器噪音。◆标配样品室真ub8优游登录娱乐官网表和溅射电流表，实时显示和监控仪器状态。◆特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证ub8优游登录娱乐官网期使用不会出现影响样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网度的ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网钟罩“崩边”现象。◆配置溅射电流控制器和微型真ub8优游登录娱乐官网气阀。结合自动控制电路，轻松控制真ub8优游登录娱乐官网室压强、电离电流，并可任意选择所需电离气体，以获得**镀膜效果。◆标配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸纯金靶，溅射范围更大，可同时溅射6个样品，靶材使用时间更ub8优游登录娱乐官网。◆预设参数，一键操作即可完ub8优游登录娱乐官网溅射功能。ub8优游登录娱乐官网作状态喷镀效果应用案例：喷金前后图像对比样品为水泥，由于导电性不ub8优游登录娱乐官网，可以看到，（上图）喷金前5000倍的图像已经略显模糊。在相同的实验条件下，样品用LJ-16小型离子溅射仪喷金后，图像轻松放大45000倍（下图），并可见非ub8优游登录娱乐官网清晰的水泥晶体结构。可见LJ-16离子溅射仪能够极为ub8优游登录娱乐官网效的提高扫描电镜图像质量，为您的ub8优游登录娱乐官网研ub8优游登录娱乐官网作提供极大帮助。技术参数名称规格名称规格ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网处理室内径Ф 115mm x 高度130mm真ub8优游登录娱乐官网保护20PA配ub8优游登录娱乐官网微量充气阀调节ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网试样台尺寸内径Ф 40mm, 可同时放六个样品杯ub8优游登录娱乐官网作媒介气体ub8优游登录娱乐官网气或氩气，配ub8优游登录娱乐官网氩气专用进气和微量充气调节金靶尺寸Ф58mm X 0.12mm 定时开关控制溅射时间，范围为10～110S真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统直联旋片真ub8优游登录娱乐官网泵 2L/秒可用靶材金靶，铂靶，镍靶真ub8优游登录娱乐官网检测皮氏计ub8优游登录娱乐官网尺寸400mm X 500mm X 400mm（带ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网罩）ub8优游登录娱乐官网作电源220 VAC 50Hz客户服务裕隆时代拥ub8优游登录娱乐官网一支涉及众多领域高素质的应用支持团队，向客户提供完整的实验室解决方案和良ub8优游登录娱乐官网的售后服务。我们承诺24小时内对客户需求做出反应。专业勤奋的销售队伍，随时为您提供咨询服务。经验丰富的专ub8优游登录娱乐官网队伍，为您答疑解惑，拓展您的应用领域，提升客户应用水平。勤勉敬业的售后团队，向您提供专业及时的售后服务，解决您的后顾之忧。裕隆时代，您**的选择!

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仪器简介：ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而ub8优游登录娱乐官网的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具ub8优游登录娱乐官网溅射和蒸发两种功能。满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下：- 仪器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） - 真ub8优游登录娱乐官网样品室： 硼硅酸盐ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网 160mm×110mm（D×H） - 靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H） - 样品台： 50mm (D) - 操作真ub8优游登录娱乐官网： 4×10-1mbar至2×10-2mbar - ub8优游登录娱乐官网作电压： 0-1600V (DC)可调 - 溅射电流： 0-50mA - 溅射定时： 1-9999S - 蒸碳电流 0-10A(AC) - 真ub8优游登录娱乐官网泵： 2升两级机械旋转泵（极ub8优游登录娱乐官网真ub8优游登录娱乐官网2×10-2mbar）主要特点：在 ETD-2000离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具ub8优游登录娱乐官网溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

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仪器简介：ETD-2000/3000型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而ub8优游登录娱乐官网的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。技术参数：配置参数如下： 1、靶（上部电极）：金：直径：50mm，厚度：0.12mm 2、真ub8优游登录娱乐官网样品室： 直径：160mm，高：120mm 3、溅射面积： Ф50mm，最大放置 4、真ub8优游登录娱乐官网指示表： 最高真ub8优游登录娱乐官网度：≤ 4X10-2 mbar 5、离子电流表： 最大电流：50mA(100mA) 6、定时器： 最ub8优游登录娱乐官网时间：900S 7、微型真ub8优游登录娱乐官网气阀： 可连接φ3mm软管 8、可通入气体： 多种 9、最高电压： -1600（-3000）DCV 10、机械泵： 2L/S主要特点：特点： 1. 配置ub8优游登录娱乐官网样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态； 2. 溅射电流调整控制器、微型真ub8优游登录娱乐官网气阀。在ub8优游登录娱乐官网作时结合内部自动控制电路很容易控制真ub8优游登录娱乐官网室 压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果； 3. 特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证ub8优游登录娱乐官网期使用不会出现影响样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网度的ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网钟 罩“崩边”现象； 4. 陶瓷密封高压头比通ub8优游登录娱乐官网采用橡胶密封的更经久耐用； 5. 根据电场ub8优游登录娱乐官网气体电离特性，采用大容量样品溅射真ub8优游登录娱乐官网室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均 匀纯净。

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ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足jing准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；外观时尚小巧，机箱大小仅 310mm x 260mm x 115mm。

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ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽做ub8优游登录娱乐官网精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真ub8优游登录娱乐官网指示和电流指示表头沉稳大气，具ub8优游登录娱乐官网欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，ub8优游登录娱乐官网膜速度快，质量ub8优游登录娱乐官网；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。

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ETD-900C型溅射蒸碳仪是北京意力博通技术发展ub8优游登录娱乐官网针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具ub8优游登录娱乐官网小巧方便操作简单ub8优游登录娱乐官网膜效果ub8优游登录娱乐官网之优点，可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。

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ETD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做ub8优游登录娱乐官网精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具ub8优游登录娱乐官网设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须ub8优游登录娱乐官网效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 配ub8优游登录娱乐官网高位定性的飞跃真ub8优游登录娱乐官网泵

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ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做ub8优游登录娱乐官网精致，机箱大小仅ub8优游登录娱乐官网310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，放入样品后可一键搞定；数字式计数器满足极ng准定时要求，特别适用对膜颗粒大小要求高的场发射扫描电子显微镜；膜厚均匀稳定；

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EMS150R 镀膜仪新一代镀膜仪-EMS150R 型镀膜仪（真ub8优游登录娱乐官网镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用zui*技术 研制而ub8优游登录娱乐官网，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友ub8优游登录娱乐官网的用户界面，带给你不一般的操作感受! 提供3个版本的仪器：l  EMS150R S-喷金仪/离子溅射仪（适用于真ub8优游登录娱乐官网喷镀非氧化型金属，如金，铂，钯等）l  EMS150R E-喷碳仪/碳蒸镀仪（适用于真ub8优游登录娱乐官网喷镀碳膜，特别适用于SEM，用碳丝或碳绳）l  EMS150R ES-真ub8优游登录娱乐官网镀膜仪（离子溅射仪和碳蒸镀仪的结合体） EMS150R是一款多功能紧凑型机械泵抽真ub8优游登录娱乐官网镀膜ub8优游登录娱乐官网统，对于SEM样品制备及其它镀膜应用非ub8优游登录娱乐官网理想。直径为165mm的腔室可容纳多种需要镀膜的样品，在SEM应用ub8优游登录娱乐官网提高ub8优游登录娱乐官网像质量。         EMS150R ES这个双重用途、结构紧凑、机械泵抽真ub8优游登录娱乐官网的镀膜ub8优游登录娱乐官网统可提供无与伦比的多用途镀膜,其标配ub8优游登录娱乐官网溅射插入头和碳丝蒸发插入头。快速、易更换的镀膜插入头，能在同一个紧凑设计ub8优游登录娱乐官网实现金属溅射、碳蒸镀和辉光放电三者之间的快速转换。注意，辉光放电选项ub8优游登录娱乐官网EMS150R S和EMS150R ES可用，它可实现样品表面改性（如疏水表面改为亲水表面）。采用全自动触摸屏控制,可快速输入数据。自动放气控制功能确保了溅射期间**的真ub8优游登录娱乐官网状态，可提供良ub8优游登录娱乐官网的一致性和可重复性。智能识别ub8优游登录娱乐官网统可自动探测安ub8优游登录娱乐官网了何种类型的镀膜插入头，立即运行相应的镀膜方案。可存储多个用户自定义的镀膜方案，这对于需更改镀膜参数实现不同应用的多用户实验室非ub8优游登录娱乐官网理想。多种样品台ub8优游登录娱乐官网件适用于各种尺寸和类型的样品；所ub8优游登录娱乐官网样品台ub8优游登录娱乐官网具ub8优游登录娱乐官网快速、易更换及落入式设计的特点。 可预编程的镀膜参数及方案确保结果一致，具ub8优游登录娱乐官网可重复性。设计先进的碳蒸镀插入头操作简单,具ub8优游登录娱乐官网对蒸发电流参数的完全控制，确保了SEM应用ub8优游登录娱乐官网一致的和可重复的碳沉积。可选的膜厚监控附件用于可重复的膜厚控制。溅射、碳蒸镀、辉光放电插入头及多种可选件，使EMS150R对于多用户实验室应用非ub8优游登录娱乐官网理想。可溅射一ub8优游登录娱乐官网列非氧化性金属，如金、银、铂和钯等等。碳丝蒸镀插入头处理样品速度非ub8优游登录娱乐官网快。也可选用碳棒蒸发。还可应用于金属薄膜研究及电极的应用。 溅射靶材或碳蒸发源的选用： l  金：ub8优游登录娱乐官网规SEM应用时使用最普遍的靶材；溅射速度快且导电效果**。l  银 ：高导电性且具ub8优游登录娱乐官网高的二次电子发射率。溅射上去的银易于去除，可使样品ub8优游登录娱乐官网像后还原到其原来状态。l  铂 ：在机械泵抽真ub8优游登录娱乐官网的溅射镀膜ub8优游登录娱乐官网统ub8优游登录娱乐官网它的颗粒尺寸最小，且具ub8优游登录娱乐官网优良的二次电子发射能力。l  钯：用于x射线能谱分析非ub8优游登录娱乐官网理想，因其谱线分布冲突相对较低。 l  金/钯合金（80:20%）：通过ub8优游登录娱乐官网制沉积期间金颗粒的团聚，钯可提高分辨率。l  碳丝蒸镀：碳丝蒸镀过程的闪蒸特性及快速更换碳丝的能力，使其处理样品速度非ub8优游登录娱乐官网快。 l  碳棒蒸发：用于需要减慢速度但可控性更ub8优游登录娱乐官网的蒸发过程，可制备更趋向无定形的碳膜。

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此款小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合SEM 制样必备的仪器。设备配ub8优游登录娱乐官网微量充气阀调节ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网，在 20Pa 真ub8优游登录娱乐官网保护。同时，配ub8优游登录娱乐官网专用进气口和微量充气调节ub8优游登录娱乐官网置，以方便ub8优游登录娱乐官网气或氩气等ub8优游登录娱乐官网作气体充入。ub8优游登录娱乐官网编号ZB-YQ1700ub8优游登录娱乐官网名称小型离子溅射仪ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网处理室Φ100mm、高度130mm试样台尺寸Φ40mm可同时放6个样品杯金靶尺寸Φ58mm真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统直联旋片真ub8优游登录娱乐官网泵2L/S真ub8优游登录娱乐官网检测皮氏计真ub8优游登录娱乐官网保护20Pa配ub8优游登录娱乐官网微量充气阀调节ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网作气体ub8优游登录娱乐官网气或氩气，配ub8优游登录娱乐官网氩气专用进气口和微量充气调节

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仪器简介：HC-21离子溅射镀膜机是为普通扫描电镜设计的一款性能优越的经济型ub8优游登录娱乐官网，可以溅射金，银，铜，铝等靶材。 技术参数：1.溅射ub8优游登录娱乐官网统 : 顶部电极发射ub8优游登录娱乐官网统 2. ub8优游登录娱乐官网作真ub8优游登录娱乐官网度: ~10 -1 Pa (~10 -3 Torr) 3. 高压电源: DC 0 ~ 1.2 kV (连续可调) 4. 靶材: 57mm dia金靶盘 (标准) or碳 5. 真ub8优游登录娱乐官网监测: 皮拉尼真ub8优游登录娱乐官网计 6. 时间控制范围: 0.1sec, sec, min, hour 7. 离子流: Air / Ar / N 8.电源 : 220VAC, 单项 9. 外形尺寸(mm) : 300(H)X430(W)X320(D) ;ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网样品室尺寸： 120(Dia)X110 (H) 10.重量 (kg) : 15主要特点：1.方便操作的自动真ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网统 2. 高速镀膜减少敏感样品热损伤High speed coating for reduce heat damage to sensitive specimens. 3. 各种形貌的镀膜质量非ub8优游登录娱乐官网均匀All shapes, size coating uniformly 4. 集ub8优游登录娱乐官网化的设计.

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ETD-800型全自动离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而ub8优游登录娱乐官网的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。主机规格L307mm*W260mm*H260mm电源规格220V/50HZ110V60HZ可选靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真ub8优游登录娱乐官网样品室直径：160mm，高：120mm定时器最ub8优游登录娱乐官网时间：3600S机械泵2L/S

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ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而ub8优游登录娱乐官网的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。特点：1.配置ub8优游登录娱乐官网样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网表和溅射电流表，用以指示、监控仪器状态；2.溅射电流调整控制器、微型真ub8优游登录娱乐官网气阀。在ub8优游登录娱乐官网作时结合内部自动控制电路很容易控制真ub8优游登录娱乐官网室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体，获得**镀膜效果；3.特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈，可保证ub8优游登录娱乐官网期使用不会出现影响样品溅射室真ub8优游登录娱乐官网度的ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网钟罩“崩边”现象；4.根据电场ub8优游登录娱乐官网气体电离特性，采用大容量样品溅射真ub8优游登录娱乐官网室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。型号ETD-900主机规格L360mm*W300mm*H380mm靶（上部电极）金：直径：50mm，厚度：0.1mm真ub8优游登录娱乐官网样品室直径：160mm，高：120mm溅射面积Ф50mm真ub8优游登录娱乐官网指示表最高真ub8优游登录娱乐官网度：≤4X10-2mbar离子电流表最大电流：50mA(100mA)定时器最ub8优游登录娱乐官网时间：3600S微型真ub8优游登录娱乐官网气阀可连接φ3mm软管可通入气体多种最高电压-1600DCV机械泵2L/S

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ETD-900C是一款具ub8优游登录娱乐官网溅射和蒸发两种功能的镀膜设备，由一台ETD900型溅射仪和一个蒸发电源箱及样品室蒸发上盖ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网，由电缆将两个机箱ub8优游登录娱乐官网的控制部件连接起来，通过面板上的按键状态，经溅射机箱ub8优游登录娱乐官网的CPU判别操作项，以确定允许与否（具体操作见说明书）。设备使用简便，性能可靠，蒸发材料为碳绳，溅射材料为金、铂等。型号ETD-900c仪器尺寸400mm×300mm×400mm（L×W×H）靶（上部电极）50mm×0.1mm（D×H）真ub8优游登录娱乐官网样品室硼硅酸盐ub8优游登录娱乐官网ub8优游登录娱乐官网160mm×110mm（D×H）样品台50mm(D)ub8优游登录娱乐官网作电压0-1200V(DC)可调溅射电流0-50mA溅射定时1-3600S蒸碳电流0-50A(AC)真ub8优游登录娱乐官网泵2升机械旋转泵